光学镀膜

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真空镀膜加工的性能优势

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真空镀膜加工的性能优势

发布日期:2021-08-09 作者: 点击:

  真空镀膜加工工艺中,要求装配到高真空环境的零件,事先都需要小心地进行清洗处理,否则各种污染物可成为大量气体和蒸气的来源,会大大延长真空器件的排气时间,不易获得高真空。

  去除或减少污染物将有利于获得良好真空,增加连接强度和气密性,提高产品的寿命和可靠性。真空镀膜设备成膜性能好,真空电镀设备涂层的致密度、覆盖能力、抗溶剂能力与耐光照能力等性能良好。

真空镀膜加工

  真空镀膜就是以磁场束缚而延长电子的运动路径,改变电子的运动方向,提高工作气体的电离率和有效利用电子的能量.电子的归宿不仅仅是基片,真空室内壁及靶源阳极也是电子归宿,因为一般基片与真空室及阳极在同一电势.磁场与电场的交互作用(EXB drift)使单个电子轨迹呈三维螺旋状,而不是仅仅在靶面圆周运动。


本文网址:http://www.dglygx.com/news/472.html

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