光学镀膜与真空镀膜技术的区别

发布日期：2022-03-08 作者：点击：

　　简单的理解就是在真空环境下，利用蒸发、溅射和随后的冷凝方法，在金属、玻璃、陶瓷、半导体和塑料零件等物体上涂上金属薄膜或涂层。其原理是在真空条件下，用蒸发器加热带蒸发物料，使其气化或升华，蒸发的离子流直接射到基材上，并在基材上沉积固体膜技术。众所周知，光学仪器包括望远镜、显微镜、照相机、测距仪、镜子、眼镜、放大镜等日常必需品。它们都分开

光学镀膜

　　开涂层技术。透射膜包括反射膜、增反射膜和吸收膜。在光学涂层表面上涂(或涂)一层涂层的过程。光学镀膜表面涂层的目的是减少或增加光的反射、分裂、分色、过滤和偏振。常用的镀膜方法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。真空镀膜是真空应用领域的重要组成部分，光学镀膜是指在光学零件表面涂覆一层(或多层)金属(或介质)膜的过程。