光学镀膜的材料分为那些？

光学镀膜是利用光的干涉作用在薄膜光学中广泛应用的一种光学材料。光学薄膜技术常用的方法是通过真空溅射在玻璃基板上镀膜，一般用于控制基板对入射光束的反射率和透射率，以满足不同的需求。为了消除光学部件表面的反射损失，提高成像质量，镀膜一层或多层透明介电膜，称为减反射膜或减反射膜。

光学零件表面镀膜后，光线在膜层上多次反射透射，形成多束干涉，控制薄膜层的折射率和厚度，可得到不同的强度分布，这是干涉镀膜的基本原理。

真空镀膜:真空镀膜主要是指需要较高真空的镀膜，包括真空离子蒸发、磁控溅射、MBE分子束外延、PLD激光溅射沉积等镀膜，所以。有两种主要类型的蒸发和溅射。将所述电镀材料制成底物，将所述电镀材料用作靶材或药物。衬底与目标处于相同的真空中。

常见的光学镀膜材料如下:

1、氟化镁材料特点:无色四方粉末，纯度高，用其制备的光学涂料可提高透光率，无断点。

2、二氧化硅材料特点:无色透明晶体，熔点高，硬度高，化学稳定性好。纯度高，用它制备出高质量的Si02涂层，蒸发状态好，无断点。按使用要求分为紫外线、红外线和可见光。

3、氧化锆材料特点为白色重结晶状态，具有高折射率和耐高温性，化学性质稳定，纯度高，用其制备出优质氧化锆涂料，无断裂点