光学镀膜

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光学镀膜方式有几种

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光学镀膜方式有几种

发布日期:2023-05-09 作者: 点击:

    光学镀膜是一种将多层光学薄膜沉积到光学元件表面上的技术,以改变光学元件的反射、透射、吸收等光学性质,从而实现各种光学器件的设计和应用。依据不同的沉积方式和沉积设备的工作原理,可以将光学镀膜分为以下几种方式:物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、电子束蒸发(EBE)、离子束沉积(IBS)和溅射沉积(MS)。以下是对这些方式的简要介绍:

  物理气相沉积(PVD)

  物理气相沉积是通过将材料加热使其蒸发,并沉积在光学元件表面上。薄膜的组成和性质由所用的材料、沉积速率、气压等因素决定。

  化学气相沉积(CVD)

  化学气相沉积是通过在高温下将反应气体加入到反应室中,使其和基体表面反应,并沉积出所需的薄膜。具有优秀的均匀性、纯度、致密性等特点。

  电子束蒸发(EBE)

  电子束蒸发是通过高速运动的电子束轰击材料表面,使其蒸发并沉积在基底表面上。薄膜的厚度和光学性质可以通过控制电子束的运动速度和功率进行调节。

光学镀膜

  离子束沉积(IBS)

  离子束沉积是通过将材料的原子或离子通过加速器加速到高速,然后通过靶材表面形成的离子束,轰击光学元件表面,使其沉积上薄膜。该方式制备的薄膜具有非常高的均匀性和致密性。

  溅射沉积(MS)

  溅射沉积是通过将材料放置于高压惰性气体环境下,通过真空电弧等设备将材料离子化,并加速到光学基底表面,沉积成膜。这种方法可以用于各种材料的沉积,控制沉积过程也比较简单,但常常需要使用大量的材料。


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