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光学镀膜过程对温度控制要求较高，尤其是在多层干涉膜系统或高折射率材料沉积中，温控精度对膜层光学性能与附着力具有直接影响。
在东莞光学镀膜设备中，常见温控系统包括加热靶材温控、电阻丝控温、红外感应测温与反馈闭环控制。标准设备温控精度一般控制在±2℃以内，对于应用需求，可实现±1℃甚至±0.5℃的准确调节。整个真空腔体的温度分布均匀性也是控制内容。
为了保持镀层光学性能一致性，部分设备支持多点测温及分区加热功能，确保膜层沉积过程中基材受热稳定。此外，系统需配套热保护机制，以避免突发温升引发膜层开裂或基材变形。
东莞地区的光学镀膜生产多数服务于镜头、显示面板、传感器等高精度行业，因此设备温控系统常搭载实时记录与报警装置，以便过程可控可追溯，保障产品一致性。
