关于光学镀膜技术的阐述

PVD 镀膜材料主要用以制备各种具有特定功能的薄膜材料，应用领域包括平板显示、半导体、太阳能电池、光磁记录媒体、 光学元器件、 节能玻璃、 LED、工具改性、高档装饰用品等。

薄膜材料生长在基体材料(如玻璃、光学玻璃等)上，通常由金属、非金属、合金或复合材料的涂层形成。它具有高渗透性、吸收性、截止性、光分离性、反射性、过滤性、干扰性、防护性、防水防污性、抗静电性、导电性、导磁性、绝缘性、耐磨性。具有耐高温、耐腐蚀、耐氧化、防辐射、装饰重组等功能，可提高产品质量、环保、节能、延长产品使用寿命。提高原有性能等。目前，薄膜的制备技术主要包括物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)。

薄膜材料生长于基板材料(如屏显玻璃、光学玻璃等)之上，一般由金属、非金属、合金或化合物等材料经过镀膜后形成，具有增透、吸收、截止、分光、反射、滤光、干涉、保护、防水防污、防静电、导电、导磁、绝缘、耐磨损、耐高温、耐腐蚀、抗氧化、防辐射、装饰和复合等功能，并能够提高产品质量、环保、节能、延长产品寿命改善原有性能等。目前，薄膜材料制备技术主要包括物理气相沉积(PVD)技术和化学气相沉积(CVD)技术。

PVD 技术是制备薄膜材料的主要技术之一，指在真空条件下采用物理方法，将某种物质表面气化成气态原子、分子或部分电离成离子，并通过低压气体(或等离子体)过程，在基板材料表面沉积具有某种特殊功能的薄膜材料的技术。在PVD 技术下，用于制备薄膜材料的物质，统称为 PVD 镀膜材料。经过多年发展，PVD 技术已成为目前主流镀膜方法，主要包括溅射镀膜和真空蒸发镀膜。

CVD 技术是在高温下依靠化学反应、把含有构成薄膜元素的气态反应剂或液态反应剂的蒸气及反应所需其它气体引入反应室，在衬底表面发生化学反应生成薄膜材料的技术