光学镀膜

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真空镀膜加工的流程有哪些呢?

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真空镀膜加工的流程有哪些呢?

发布日期:2020-08-26 作者: 点击:

  1.表面处理:通常,镀膜之前,应对基材(镀件)进行除油、除尘等预处理,以保证镀件的整洁、干燥.

  2.底涂:底涂施工时,可以采用喷涂,也可采用浸涂,具体应视镀件大小、形状、结构及用户设备等.

  3.底涂烘干:SZ-97镀膜油系列均为自干型漆,烘干的目的是为了提高生产效率。通常烘干的温度.

  4.镀膜:镀膜时,应保证镀膜机的真空度达到要求后,再加热钨丝,并严格控制加 热时间。同时应.

  5.面涂:通常面涂的目的有以下两个方面:A、提高镀件的耐水性、耐腐蚀性、耐磨耗性;B、为水染...

  真空镀膜加工主要指一类需要在较高真空度下进du行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

真空镀膜加工

  需要镀膜的被成为基片,镀的材料被成为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。

  蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。 对于溅射类镀膜,可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且沉积在基片表面,经历成膜过程,然后形成薄膜。

  典型的真空镀膜,包括了录像带,数据磁带DAT,以及很多电极的制作过程。


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